建模步骤如下：

1、在顶视图上面绘制草图，分别画两个半圆，大小如下图。

2、在两条曲线上分别创建两个基准点，，两个基准点的偏移比率值分别设置为0。如下图

3、通过两个基准点创建一个法向TOP平面的基准面DTM1，如图6.。

4、进入DTM1草绘平面，如图7.

绘制样条线，参考两个基准点，在两个基准点的中间创建一条基准轴，然后经过两个基准点和基准轴画一条样条线，中间点高度为50，如图8。

5、创建一个基准图形，命名为a，绘制一条样条线，尺寸如图10。

6，将创建好的基准图形移动到草绘1特征下面，如下图11，图12。

图11

图12

7、将图13的三个特征组成一个组，隐藏基准点和DTM1平面，如图14。

图13

图14

8、阵列刚刚组成的组，选择尺寸阵列，分别选择三个尺寸，增量设置如图15。

其中50的尺寸，增量设置为关系，编辑关系表达式为“memb_v=evalgraph('a',idx1/33*100)”，‘a’为上面创建的基准图形，idx1/33*100表示从0到100%按多大的比率变化。如图16。

阵列的数量为33

完成阵列后如图18。

9、打开扫描特征，选第一条阵列曲线作为扫描轨迹，如图19。

进入草图绘制，以基准点为圆心，画一个直径为2的圆，图20。

完成扫描后如图21。

10、阵列扫描特征，这时阵列默认为参考阵列，完成后如图22。

11、打开扫描特征，选中草绘1中一条曲线作为扫描轨迹，图23。

进入草图绘制，以基准点为圆心，画一个直径为4的圆，如图24。

将轨迹线的两端分别延长3，如图25，完成退出扫描特征。

12、同样，打开扫描特征，选中草绘1中另一条曲线作为扫描轨迹，图26。

进入草图绘制，以基准点为圆心，画一个直径为4的圆，如图27。

将轨迹线的两端分别延长3，如图28，完成退出扫描特征。

13、最后将4个端面倒圆角，大小为2，如图30。

建模完成，最终效果如下：