随着科技的进步和产品技术的不断提升以及中国对外开放的深入，大批的外资企业在中国设立其制造基地， 特别是近年来锂电池行业及半导体行业的大举进入，其全新的生产工艺及生产过程中对环境温、湿度、洁净度的较高要求 ，需要一个有效且较低能耗的空调系统，来保持低湿度的环境。

目前，空气除湿主要有五种方式，冷冻除湿法、液体吸收剂除湿、固体吸附剂除湿、转轮法除湿、膜法除湿。 在空调除湿系统中，冷却除湿和固体吸附剂除湿是主要手段。 冷却除湿在环境对湿度要求不是很高（RH≯60～65%）的条件下，效果比较好，性能稳定且能耗也较低，目前应用比较广泛。但在生产环境对湿度要求较高（RH=45±5%）的地方，采用冷却除湿就是不经济的。采用转轮除湿机，将不受空气露点影响，且除湿量大，特别适用于低湿条件下，但如果全部除湿仅采用固态吸附原理的转轮除湿机进行，由于其再生耗能量较大，此种方案也不是最经济的。由于转轮除湿和冷却除湿各有所长，将其优化组合，各取所长，互补所短，会更好的发挥其效能。值得注意的是这两种除湿方法所对应的产品， 暖通空调企业多有涉足，且不少企业已在工业除湿领域颇有建树。随着诸多新兴领域的兴起，工业除湿机市场将有可能成为暖通空调企业的第二增长曲线。

湿度在半导体行业中的要求 半导体的生产工厂要在全年四季的气候条件下，生产车间内部要求维持稳定的环境，特别是对于生产环境的温度、湿度、空气洁净度、气流组织，压力平衡等多个空调参数都提出了严格的要求。有别于其他的恒温恒湿环境系统的要求，由于电子产品对静电的敏感性和高湿度环境对其品质的影响，其对湿度的精度提出了严格要求，对于空调系统的配置，则 要求系统同时具备夏季除湿的功能和冬季加湿的功能。 一般的，半导体生产行业的温湿度条件为：T=22±2°C，RH=45±5%；而对于这个温湿度要求，传统上经常采用冷冻除湿+后加热（再热）方式进行处理，并取得了一定成果。

但这种方式却存在着一个致命问题， 冷热的抵消和能耗的巨大浪费 ，特别是由于半导体行业的大新风，大排风系统、生产环境为大空间洁净环境以及目前许多厂主要集中分布在华南和华东地区的特殊情况，使得这个问题十分突出。因此，在最新的许多半导体厂房的空调系统开始使用新风通过新风机组（冷却除湿）和转轮除湿机联合处理湿度、温度而后通过后空调机组处理的组合方式，达到室内送风温、湿度要求，并取得了显著收益。

转轮与冷却联合除湿空调系统，就是将具有冷热交换的冷却除湿循环系统与转轮除湿相结合，利用制冷系统的吸热除湿进行前期除湿，而利用转轮除湿机进行深度除湿。 冷却除湿在一定的范围内除湿效果好，且性能稳定，但当湿度要求较低时，冷却除湿的能力明显下降，此时选用转轮与冷却联合除湿系统，可以达到很好的效果。 冷却除湿作为前期除湿，突出了冷却除湿机高露点工况下能耗低的特点，利用转轮除湿进行深度除湿，突出了转轮除湿机低温低湿条件下，不受露点限制且除湿量大的优点。此系统常用的处理流程如下：1：冷却除湿；2：转轮除湿；3：等湿冷却；5：再生加热；6：绝热再生 

来源：《除湿技术》；锐可润；Tks to @July夏sugar