主要工艺:调节槽-----曝气槽------沉淀槽-------生物膜处理槽--------砂滤装置-------O3处理---------活性碳处理。出水电导率800-1000μs,出水经软化处理再用于产品清洗(公司内指出水电导率太高,是否属于无理取闹)。
主要工艺:调节槽-----曝气槽------沉淀槽-------生物膜处理槽--------砂滤装置-------O3处理---------活性碳处理。出水电导率800-1000μs,出水经软化处理再用于产品清洗(公司内指出水电导率太高,是否属于无理取闹)。
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