多层研发大厦施组设计

工程的建筑方案由美国S.O.M公司设计,机械工业部设计研究院负责施工图设计,大厦主体建筑平面呈“V”型,南北长约102.7m,东西宽62.5m,建筑造型错落有致,简洁明快,壮观豪华,功能齐全。建筑物檐口高度为49.7m,外墙装饰为花岗岩、玻璃幕墙、铝板以及石材格栅相结合组成,辅以遮阳板结构体系,加上上部结构逐层收缩的建筑处理手法,使整个建筑物既有中国传统的雄伟坚实的建筑格调,又具有简洁明快的现代化建筑风格。其平面图、剖面图见附图2—1、附图2—2

上传人: 上传时间:2019-12-06 21:03:25 文档格式:doc 收藏数:0 页数: 526 评论数: 0
详细介绍 相关推荐 内容评论
详细介绍
多层研发大厦施组设计-图一

多层研发大厦施组设计-图一

多层研发大厦施组设计-图二

多层研发大厦施组设计-图二

多层研发大厦施组设计-图三

多层研发大厦施组设计-图三

多层研发大厦施组设计-图四

多层研发大厦施组设计-图四

多层研发大厦施组设计-图五

多层研发大厦施组设计-图五

特别声明:本资料属于用户上传的共享下载内容,仅只用于学习不可用于商业用途,如有版权问题,请及时 联系站方删除!

收藏
分享

微信扫码分享

点击分享

相关推荐
点击查看更多
全部评论 我要评论
暂无评论